·能高效去除揮發性有機物（VOC）、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，除臭效率高。
·無需對惡臭氣體進行特殊的預處理，設備工作環境溫度在-30度~95度之間，濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作，無需添加其他物質及藥劑參與處理。
·設備占地面積小，運行維護操作簡單，設備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.8度電能），設備風阻極低＜50pa，可節約大量排風動力能耗。
·適應性強，適用氣體種類多，可連續和間歇運行。
Gelor®-UV紫外光觸媒催化氧化凈化技術是集高能高臭氧紫外光光解技術、納米光觸媒催化氧化技術于一體，工藝原理如下：
利用UV紫外線光束照射廢氣，裂解廢氣分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等；
利用UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧，UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3，臭氧具有強氧化能力，對異味氣體有立竿見影的清除效果；
催化劑在受到紫外線光照射時生成化學活性很強的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基，攻擊有機物，達到降解有機物的作用。
光催化工藝原理圖
·能高效去除揮發性有機物（VOC）、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，除臭效率高。
·無需對惡臭氣體進行特殊的預處理，設備工作環境溫度在-30度~95度之間，濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作，無需添加其他物質及藥劑參與處理。
·設備占地面積小，運行維護操作簡單，設備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.8度電能），設備風阻極低＜50pa，可節約大量排風動力能耗。
·適應性強，適用氣體種類多，可連續和間歇運行。